iPV3000 第三代光伏离子注入设备（2017-）维持皮带水平传送硅片和固态磷离子源改进的大束流离子源，束流提升40%增加图案化注入掺杂功能产能3000WPH。

iPV2000 第二代光伏离子注入设备（2014-2017）略去质量分析，采用皮带水平传送硅片省去昂贵的磷烷，使用廉价的固态磷产能1500-1700WPH。

离子注入是通过对半导体材料表面进行某种元素的掺杂，从而改变其特性的工艺制程，在集成电路（IC）工业中得到广泛的应用。作为离子注入制程的装备—离子注入机，是先进IC生产线上最关键的工具之一，每年全球拥有15-20亿美金的市场规模。